大发时时彩

产品中心 > 晶体硅电池设备 > 槽式碱抛光清洗设备

槽式碱抛光清洗设备


设备名称 Equipment Name
· 槽式碱抛光清洗设备  Batch Alkaline Polishing Equipment

设备型号 Equipment Model
· SC-CSZ8000E-14F

设备用途 Equipment Application
· 用于扩散后的硅片抛光刻蚀、清洗处理,以及搭配双面电池背面制绒、清洗处理。
· This equipment is used for polishing, etching and cleaning treatment of diffused wafers and also compatible for texturing and cleaning treatment of bifacial solar cells.

技术特点  Features 

· 产能:400pcs/批,8000pcs/小时。
  Throughput: 400pcs/batch, 8000pcs/h.

· 兼容背面刻蚀抛光及单晶背面制绒工艺。
  Compatible with rear side etch polishing and mono-crystalline rear side texturing process.

· 支持多种添加剂技术。
  Suitable for various additives.

· 支持最薄120um硅片。
  Wafer thickness down to 120um.

· 洁净区域干燥,自洁净系统。
  With dry clean area and self-cleaning system.

· 低温烘干技术。
  Low-temperature drying.

· 快速换液,在线换液。
  Quick inline bath change.

· 支持MES、RFID及选配在线称重功能。
  Suitable with MES, RFID system, inline weight testing optional.


设备参数 Parameters